OTSUKA大塚電子廣州代理，OTSUKA廣州代理，.，OTSUKA大塚電子廣州代理
纖維光學(xué)顆粒分析儀FPAR-1000日本OTSUKA大塚電子纖維光學(xué)顆粒分析儀FPAR-1000日本OTSUKA大塚電子纖維光學(xué)顆粒分析儀FPAR-1000日本OTSUKA大塚電子纖維光學(xué)顆粒分析儀FPAR-1000日本OTSUKA大塚電子纖維光學(xué)顆粒分析儀FPAR-1000日本OTSUKA大塚電子纖維光學(xué)顆粒分析儀FPAR-1000日本OTSUKA大塚電子
特 長(zhǎng)
希薄溶液から濃厚溶液まで、幅広い濃度範(fàn)囲での高速?高精度な粒子徑?粒子徑分布（粒徑?粒徑分布）測(cè)定が可能です。 微粒子特有の分散?凝集過(guò)程をモニターする機(jī)能など、研究?品質(zhì)管理の幅広い用途で使用可能です。 新開発の測(cè)定プローブにより、濃厚溶液での高精度な粒子徑測(cè)定に対応しています。 サンプル溫調(diào)、超音波洗浄など、必要な機(jī)能をすべて內(nèi)蔵したA3サイズのコンパクト設(shè)計(jì)です。
測(cè)定項(xiàng)目
粒子徑 3 nm ～ 5000nm 1 nm ～ 5000nm （高感度仕様） キュムラント平均粒子徑
ヒストグラム平均粒子徑（D 50 ）（高感度仕様） 分布解析 CONTIN法
MARQUARDT法
NNLS法
CUMULANT法
対応濃度範(fàn)囲
（標(biāo)準(zhǔn)ラテックス
204nm の場(chǎng)合） 0.001 ～ 10 % 濃厚系プローブ（標(biāo)準(zhǔn)）
0.01 ～ 10 % 希薄系プローブ（オプション）
0.001 ～ 0.01 %
応用分野
色材工業(yè)における顔料?インクの分散?凝集制御?粒子徑管理。 セラミックススラリーの分散?凝集制御、分散剤効果 半導(dǎo)體分野の研磨粒子の粒子徑管理 高分子?化學(xué)工業(yè)におけるエマルジョン、ラテックスの分散凝集制御、粒子徑管理 醫(yī)薬品?食品エマルジョンの分散?凝集制御、リポソームなどの粒子徑管理 光觸媒（酸化チタン）粒子の分散狀態(tài)管理 仕 様
光源 半導(dǎo)體レーザー 検出器 光電子増倍管（フォトンカウンティング方式） サンプル溫調(diào)範(fàn)囲 10 ～ 70℃ 溫調(diào)方式 電子式冷卻素子、ヒーター プローブ洗浄方式 超音波洗浄 電源 AC100V ± 10%50/60Hz 300VA 寸法（WDH） 320（W)×507（D)×284（H) 重量 約 22 kg
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OTSUKA大塚電子廣州代理，OTSUKA廣州代理，.，OTSUKA大塚電子廣州代理藤野貿(mào)易（廣州）有限公司-主營(yíng)FA自動(dòng)化、膠粘材料、油脂材料、機(jī)械設(shè)備、精密儀器、物流搬運(yùn)，工具等產(chǎn)品
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